ASML y China: CEO alerta por efecto de las restricciones

La disputa por los semiconductores abrió una paradoja para Occidente. Christophe Fouquet, director general de ASML, advirtió que aumentar la presión sobre China para impedirle acceder a las máquinas de litografía más avanzadas podría terminar acelerando el nacimiento de un competidor. El señalamiento toca uno de los puntos más sensibles de la rivalidad tecnológica: ASML domina la litografía de ultravioleta extremo necesaria para fabricar chips de vanguardia, mientras Pekín destina recursos a reducir su dependencia extranjera. En el tablero de ASML y China, las restricciones pueden retrasar capacidades en el corto plazo, pero también elevar el incentivo para desarrollar una alternativa propia.

ASML y China, en el centro de la disputa tecnológica

Christophe Fouquet, director general de ASML, advirtió que aumentar demasiado la presión tecnológica sobre China puede tener un efecto contrario al buscado: acelerar la aparición de un competidor capaz de fabricar sus propias máquinas de litografía avanzada. La declaración, recogida por Financial Times y retomada por Xataka, apunta al dilema que enfrentan Estados Unidos, Países Bajos y sus aliados al limitar el acceso chino a equipos estratégicos.

ASML ocupa una posición excepcional en la cadena global de semiconductores. La compañía neerlandesa domina la litografía de ultravioleta extremo, conocida como UVE o EUV, utilizada para producir los chips más avanzados. Reuters reportó en septiembre que la empresa mantiene un dominio prácticamente total en la tecnología EUV de vanguardia y que sus nuevos sistemas High-NA están siendo adoptados por grandes fabricantes.

Las restricciones buscan frenar el avance chino

Los controles de exportación han impedido que fabricantes chinos accedan a los sistemas EUV más avanzados de ASML. Esa política busca limitar la capacidad de China para producir semiconductores de última generación, una tecnología con aplicaciones económicas, de inteligencia artificial y de seguridad nacional.

Sin esos equipos, fabricantes como SMIC han recurrido a técnicas de exposición múltiple con máquinas de ultravioleta profundo. El método permite avanzar en la fabricación de chips, pero exige más pasos, eleva los costos y puede reducir el rendimiento de las obleas. Xataka señala que esta solución ha permitido a la industria china mantener avances pese a las restricciones.

China acelera su propia tecnología de litografía

El riesgo señalado por Fouquet es que el bloqueo termine fortaleciendo el incentivo para sustituir tecnología extranjera. Xataka sostiene, con base en filtraciones y reportes previos, que China trabaja en prototipos propios de litografía UVE y que distintos centros de investigación y empresas desarrollan componentes necesarios para reducir su dependencia exterior.

Esos proyectos todavía no equivalen a una alternativa comercial probada frente a ASML. Los plazos mencionados para pruebas y producción a escala proceden de filtraciones y estimaciones, por lo que deben tomarse con cautela. La brecha tecnológica continúa siendo considerable, mientras ASML conserva una posición dominante en los sistemas más sofisticados.

El dilema de las restricciones

La advertencia de ASML no implica que China esté a punto de igualar su tecnología. Sí expone un dilema estratégico: cuanto más valiosa y difícil de sustituir es una tecnología restringida, mayor es el incentivo para desarrollar una alternativa nacional. El resultado dependerá de si los controles consiguen mantener la brecha tecnológica o, con el tiempo, contribuyen a crear un nuevo competidor.